其實我早就已經在做芯片產業的布局了。雖然我也承認，咱們國家的芯片半導體技術，眼下是不如米聯邦。但也沒你們想的那么差。
　　告訴你們一個好消息吧！咱們I光源投影式國產光刻機已經完成了技術突破。理論上已經能夠制造出三百八十到三百五十納米以內的芯片。更重要的是屬于咱們自己的邏輯處理器芯片也已經設計完成，只要國產光刻機一到位，馬上就能生產出咱們自己的芯片了。”
　　眾人聽到這當然是目瞪口呆了。
　　龍翰科技能生產出自己的處理器芯片了。
　　真的假的？
　　這幸福也來的太突然了吧！
　　韋弘業急忙道：“蘇總，您說的都是真的嗎？”
　　蘇翰道：“當然是真的了。我是那種喜歡開玩笑的人嗎！對了，金總監,  我在魔都建設的芯片工廠，已經建設完成了。你去組織一隊精兵猛將。我現在已經定了一套芯片試驗性的生產線，最近就要組裝，然后試生產。你去魔都的芯片生產廠，去那邊組織組織，把試驗車間準備好，東西一到位，盡快安裝。咱們要抓緊時間調試設備，必須要在短時間內，生產出咱們自己的芯片來。這次必須要讓米聯邦那幫家伙看看，西方不亮東方亮，這地球離開誰都照樣轉。
　　某國人不讓咱們用他們的芯片，咱們就自己造芯片。
　　這次必須要讓全世界的人都知道，說到計算機，龍翰科技硬件水平也是一樣強。”
　　金夢凡急忙拍胸脯接下了這個軍令狀。
　　其他行政部門的負責人也是一臉的羨慕。
　　金夢凡這么一去十有八九就是地方大員了。
　　國內首個芯片生產廠的行政一把手，想想也是牛逼的不行。
　　蘇翰看了看眾人道：“大家按部就班，該干什么，還干什么。芯片的事情出去不要亂說，等到時候咱們用上自己的芯片以后，看看米聯邦那幫家伙，還說什么。”
　　眾人聞言頓時是血條再次滿血復活。
　　一個個再也不像之前那樣有氣無力了。
　　紛紛都想打好這場翻身仗。
　　……
　　會后。
　　金夢凡帶著一幫親信前往魔都的芯片生產廠。
　　芯片生產廠，已經建好半年多了,  由于一直沒有設備，只是反復在做空氣質量測試。
　　畢竟芯片生產需要無塵環境對空氣質量要求還是非常高的。
　　金夢凡帶隊到了以后，急忙組織人員，準備迎接設備的到來。
　　……
　　一周后。
　　首批測驗用的光刻機、封裝機、離子注入機等等設備紛紛到廠開始安裝。
　　光刻機最重要的功能就是光源和曝光工藝。
　　國產光刻機以前為什么不行,  主要是光源技術明顯滯后，當然曝光工藝也不行。
　　其實國際市場上產量最大的芯片生產設備，普遍還是采用第一代G光源的一點五微米到八百納米左右的技術。
　　畢竟不是所有的芯片都要求三百五十納米以內的高端芯片制造。
　　而第二代的I光源才是主要用于三百六十五納米左右的芯片制造。
　　不過第三代光源深紫外光（DUV）也已經有了。
　　只是這會還不是很穩定并不能形成產能。
　　而第四代光源技術極紫外光（EUV）現在所有人都沒有頭緒。
　　全球所有的光刻機制造領域幾乎都卡在這個地方。
　　雖然芯片生產已經嘗試向著第三代光源靠近。
　　但量產的其實還是在第二代附近轉悠。
　　英特爾公司的奔騰系列和AM公司的K系列用的都是第二代光源量產的產品。
　　全球的光刻機市場，實際上還是第二代光源技術在坐莊。
　　說到這個時間節點的光刻機制造水平。
　　以長島國的兩個品牌為主。
　　而蘇翰說的國產光刻機之前還處于第一代的水平。
　　說完了光源問題又要說說曝光工藝的問題。
　　畢竟光源和生產工藝缺一不可。
　　現在的光刻機曝光工藝總共分為三種。
　　第一種接近式曝光。
　　第二種接觸式曝光。
　　第三種投影式曝光。
　　接觸式曝光精度很高。
　　但接觸式曝光需要接觸晶圓片，容易造成晶圓片和掩膜版的損傷，良品率低，成本高，不適合大規模生產。
　　現在幾乎沒人用了。
　　接近式曝光，雖然不觸碰晶圓片，沒有損傷，良品率也高。但接近式曝光也有自己的問題，就是有光線衍射問題，光線衍射以后分辨率低。想要提高良品率，只能損失分辨率。
　　生產處的芯片精度太差自然也沒人用了。
　　投影式曝光會在掩膜版和光刻膠之間使用透鏡聚光來提高分辨率。
　　所以投影式曝光工藝是眼下芯片加工的主要工藝。
　　不過投影式曝光只是大方向。
　　下面還有不同的加工工藝分支。
　　如進步式、掃描式、離軸同軸等等……
　　其實芯片制造的難點就在這些加工工藝上了。
　　不同的加工工藝代表了不同的生產速度和良品率。
　　生產效率自然不可同日而語。
　　而國內的光刻機之前的光源技術還停留在一代的水平。
　　雖然曝光工藝也是投影式，但曝光工藝落后，生產速度和效率不行。
　　而蘇翰說的突破，分三個層面，一個是光源上的突破，一個就是曝光工藝上的突破,  還有各種生產材料上的突破。
　　以前的國產光刻機是一代G光源。
　　經過一年多的辛苦研發。
　　終于突破到了二代I光源。
　　畢竟這會的光刻機光源技術還沒有未來那么變態。
　　只要錢到位突破起來還是有可能的。
　　制約芯片生產主要是投影式曝光的工藝流程。
　　蘇翰對光刻機的相關知識其實了解的并不多,  但他知道很多芯片設計圖紙，其實從這些圖紙上他就能推算出對方的工藝順序到底是什么。
　　畢竟他是精通芯片設計的，只是不精通設備生產和制造而已。
　　不過有了工藝順序，起碼有個模糊的答案。
　　雖然答案并不能保證百分之百準確。
　　但蘇翰并不是要百分之百準確的答案。
　　百分之百準確不是抄襲別人了嗎。
　　這樣容易惹起知識產權的糾紛。
　　蘇翰只是給光刻機生產團隊一個工藝思路，剩下的就叫光刻機生產團隊自己去想辦法。


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